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      輻射溫度計在單晶硅提拉設備的溫度控制上的運用

      發(fā)布時間:2024-09-28
      輻射溫度計在單晶硅提拉設備的溫度控制上的運用
      多晶硅在坩堝中熔化時的溫度控制和晶種后旋轉(zhuǎn)提拉時的溫度控制。
      從升降機視口進行的溫度測量。
      單晶硅提拉過程中的溫度控制。
      選型要點對于硅的溫度測量,在 1.1 μm 或更小的波長下進行溫度測量是最佳的,因為溫度的發(fā)射率變化很小。
      ftkx 系列和 flhx 系列是理想的,因為它們具有廣泛的遠距離、小光點類型(從 φ0.15 起)。由于光纖頭結(jié)構(gòu)緊湊且耐熱150°c,因此即使環(huán)境溫度稍高也可以安裝。
      頭分離型無需采取輻射熱對策。
      所選機型new!在惡劣環(huán)境和狹小空間也能自由使用的1ms光纖型
      半階型
      光纖式輻射溫度計ftkx系列
      測量溫度范圍:100°c至2000°c
      纖維型(耐熱磁場)
      高溫
      用于通過石英
      0.1ms/1ms快速響應
      用于金屬
      new!1ms 輻射溫度計,規(guī)格可根據(jù)測量對象改變
      無纖維輻射溫度計 flhx 系列
      測量溫度范圍:90°c 至 2000°c
      高溫
      用于通過石英
      0.1ms/1ms快速響應
      用于金屬
      關鍵詞:溫度計
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