本實用新型涉及一種通過調節(jié)加熱盤升降來調節(jié)兩極板間間距的手動升降裝置，屬于半導體薄膜的沉積應用及制造技術領域。
背景技術:
目前，半導體電鍍設備，特別是12英寸pecvd設備產(chǎn)品的加熱盤升降調節(jié)機構由電動滑臺(氣動滑臺)、導軌、波紋鋼管、上下連接法蘭、導向機構、調平機構、密封機構、傳感器和支架構成動力連通時，滑臺在導向機構的引導下上下移動，通過傳感器反饋位置實現(xiàn)加熱盤的升降調整。 但是，上述復雜的調整結構可以滿足調整加熱盤升降的需要，滿足升降位置反饋和調整的需要，但由于設備的工作環(huán)境一般為400°c以上的高溫，調整和反饋的信號容易干擾，維護時設備的 電子設備的成本也不會變小，上述閉環(huán)全自動的設計結構并不*適應半導體電鍍行業(yè)的現(xiàn)狀。
本實用新型的目的是針對上述現(xiàn)有技術的不足，提供一種占地面積小、結構簡單、容易調平的新型手動升降裝置。 為了實現(xiàn)上述目，本實用新型包括波紋管組件，波紋管組件通過焊接形成波紋管組件和上下凸緣. 在此基礎上，法蘭固定在加熱盤底部，下法蘭按壓密封件固定在穩(wěn)定流室底部，實現(xiàn)波紋管的固定和密封。 波紋管組件的下法蘭與導向銅套連接，在整個裝置的垂直方向上被導向。 所述導向銅套與線母連接，線母與螺桿卡合，通過轉動螺釘固定座、銅套和手柄實現(xiàn)螺桿的順利旋轉。 指針固定在導套上，刻度板環(huán)在把手的外圈上。 調整刻度盤時，刻度盤會準確地指示旋轉行程，刻度在數(shù)量級表示上升或下降的位移。 導向銅套的外周有與彈簧相連的螺栓，用于微調加熱盤的水平。 通過彈簧的自鎖功能，可以在調整中獲得可調整的效果。 本實用新型采用簡單可靠的機械傳動機構和直觀的刻度盤、標尺代替現(xiàn)有技術的滑臺和傳感器，其結構簡單。 另外，在實現(xiàn)基本功能需求的基礎上，可以*實現(xiàn)加熱柜的升降調整、極距調整，加之機構整體空間小，調平和拆卸維護簡單，保證升降高度的反饋直觀，成本低廉 適用于科研機構和小型fab工廠所需的經(jīng)常性調整試驗參數(shù)，反復調整比對實驗結果的目的。
具體實施方式：
波紋管組件通過焊接形成波紋管和上下凸緣，其上凸緣固定在加熱盤底部，下凸緣按壓密封固定在穩(wěn)定流室底部進行波紋管固定和密封，波紋管組件下凸緣與導向銅罩連接，在裝置整體的上下方向上
根據(jù)權利要求1所述手動升降裝置，其特征在于，所述螺桿(8)為t型結構。
摘要手動升降裝置主要解決了現(xiàn)有產(chǎn)品結構復雜、成本高等技術問題。 該裝置包括波紋管組件，波紋管組件由波紋管和上下法蘭焊接而成。 在此基礎上，固定在加熱盤底部，下法蘭按壓密封件固定在穩(wěn)定流室底部，實現(xiàn)波紋管的固定和密封。 在整個裝置的垂直方向上被導向。 指針固定在導銅套上，刻度板環(huán)固定在把手的外圈上，導銅套的外周設有與彈簧連接的螺栓。 本裝置采用簡單可靠的機械傳動機構和直觀的刻度盤、標尺代替?zhèn)鹘y(tǒng)的滑臺和傳感器，結構簡單，拆卸維護方便，成本低廉。 適應科研機構和小型fab工廠所需的經(jīng)常性調整試驗參數(shù)，反復調整比對實驗結果的目的。