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      HAST試驗在貼片薄膜電阻失效分析中的應(yīng)用

      發(fā)布時間:2024-08-17
      電阻器作為運用泛的電子元器件之一,在電子設(shè)備中使用數(shù)量很大,因而電阻器失效導(dǎo)致設(shè)備故障的比率也相當(dāng)高。特別是貼片精密薄膜電阻(以下簡稱電阻),因其工藝及結(jié)構(gòu)的特點,近年來因濕熱導(dǎo)致阻值漂移甚至開路的案例越來越多,厘清失效原因及機(jī)理,已成為迫切需要研究的課題。而傳統(tǒng)的40℃、90%rh和85℃、85%rh的溫/濕度偏壓試驗方法(thb)需要花上千小時,已不能滿足當(dāng)今高時效性的需求。
      pct高壓蒸煮試驗有結(jié)露現(xiàn)象,不能加偏壓,故需要進(jìn)一步改進(jìn)加速試驗。hast就是為代替?zhèn)鹘y(tǒng)的溫度/濕度試驗而開發(fā)的方法,目前在微電路及半導(dǎo)體分析中已得到廣泛的應(yīng)用。
      本文將hast應(yīng)用于電阻失效機(jī)理的研究和耐濕熱性能的評估中,展示了hast在電阻失效分析中的實踐應(yīng)用,為電阻的工藝改進(jìn)及可靠性檢驗提供了一套快速、有效的測試方法,對電阻品質(zhì)的改善與提升具有一定的指導(dǎo)意義。
      分析背景
      某產(chǎn)品客戶端失效,經(jīng)測試發(fā)現(xiàn)為電阻開路所致。電阻規(guī)格:348kω±0.1%,額定功率:0.1w。電阻命名如表1。
      廠商 a b
      電阻 不良品 正常品 同批次
      未使用品
      同料號
      比對品
      命名 a-ng a-ok a-原材 b-原材
      分析原因
      外觀觀察
      先用實體顯微鏡(olympus sz61tr)對電阻保護(hù)層進(jìn)行外觀觀察,如圖1紅色框起處,a-ng陶瓷基體外露,保護(hù)層未覆蓋至邊緣。再用sem(hitachi s-3400n)對a-ng、a-ok邊緣保護(hù)層形貌進(jìn)行放大觀察,如圖1a、1b所示,a-ng保護(hù)層邊緣疏松粗糙。
      去除保護(hù)層
      先用有機(jī)溶劑去除電阻保護(hù)層,再用金相顯微鏡(olympus bx51m)進(jìn)行觀察。如圖2a黃框所示,a-ng邊緣位置金屬膜缺失,用萬用表對缺失膜兩端進(jìn)行電性確認(rèn)顯示開路,故電阻失效的原因為金屬膜缺失所致。如圖2b所示,a-ok金屬膜完整,未見明顯異常。
      原因探討
      電阻是導(dǎo)體的一種基本性質(zhì),與導(dǎo)體的材料、長度、橫截面積和溫度有關(guān)。當(dāng)阻值為r時,可用公式r=ρl/s表示,其中l(wèi)、s分別表示導(dǎo)體的長度和截面積;ρ表示導(dǎo)體的電阻率,對某一電阻器而言,l、ρ是已經(jīng)確定的,阻值隨著s的變化而改變。金屬膜缺失使電阻s變小,從而導(dǎo)致電阻阻值偏大或開路。
      金屬膜缺失原因主要有:
      (1)使用過程中過電應(yīng)力致使金屬膜熔損。(2)因濕熱、環(huán)境或電流(電壓)等因素,使原本存在的金屬膜遭受電解反應(yīng)而破壞、消失,此現(xiàn)象稱之為電蝕。
      機(jī)理研究
      為進(jìn)一步厘清失效真因和機(jī)理,模擬不同條件下的失效現(xiàn)象,論證失效機(jī)理。
      (1) eos試驗
      采用直流電源供應(yīng)器(chroma 62024p-600-8)進(jìn)行測試,測試電壓分別為600v、1000v,持續(xù)時間(5±1)s。
      (2) hast試驗
      采用高加速壽命試驗箱(hirayama pc-422r8d)進(jìn)行測試,測試條件:溫度130℃、濕度85%rh、真空度0.12mpa、偏壓10v、時間96h。測試標(biāo)準(zhǔn):jesd22-a110e。hast的目的為評估電阻在高溫、高濕、偏壓的加速因子下,保護(hù)層與金屬膜對濕氣腐蝕抵抗的能力,并可縮短器件的壽命試驗時間。
      試驗條件及結(jié)果見表2,eos、hast試驗后電阻均出現(xiàn)阻值偏大或開路的現(xiàn)象。
      試驗 實驗條件 試驗結(jié)果 影響因素
      eos 600v 阻值偏大 過電應(yīng)力
      1000v 開路 過電應(yīng)力
      hast 130℃/85%rh
      /0.12mpa/10v/96h
      阻值偏大、開路 高溫、高濕、偏壓
      圖3為試驗不良品去除保護(hù)層圖片,如圖3a、3b所示,eos試驗不良品金屬膜均有不同程度的熔損,電壓越大膜熔損越嚴(yán)重,阻值變化越大甚至開路,此現(xiàn)象與a-ng金屬膜缺失現(xiàn)象不同。如圖3c所示,hast試驗不良品可見電阻邊緣位置金屬膜缺失,與a-ng失效現(xiàn)象一致,失效機(jī)理為電阻在高溫、高濕、直流負(fù)荷的作用下發(fā)生電蝕。
      電蝕失效主要以薄膜電阻為主,常見的失效機(jī)理有2種:(1)在金屬膜沉積后,印刷保護(hù)層之前這段時間有雜質(zhì)污染,成品通電時造成電蝕。(2)保護(hù)層有外傷或覆蓋不好,雜質(zhì)和水汽進(jìn)入導(dǎo)致電蝕。
      為進(jìn)一步研究失效機(jī)理,尋求改善方向,對以上2種失效機(jī)理進(jìn)行深入探討,選取a-原材、b-原材進(jìn)行結(jié)構(gòu)分析與比對。圖4為電阻的結(jié)構(gòu)圖,電阻的金屬膜是以ni-cr合金濺鍍沉積而成的薄膜,基板為氧化鋁,保護(hù)層材料為環(huán)氧樹脂。
      雜質(zhì)污染檢測
      當(dāng)陶瓷基體及金屬膜中含有k+、na+、ca2+、cl-等雜質(zhì)時,電解作用加快,阻值迅速增加,失效速度加快。為驗證a-ng金屬膜表面有無雜質(zhì)污染,對去除保護(hù)層后的金屬膜進(jìn)行edx(horiba ex-250)成分分析,如圖5a、5b分別為缺失膜與正常膜區(qū)域的元素檢測結(jié)果,后者可見金屬膜ni、cr元素,未發(fā)現(xiàn)k+、na+、ca2+、cl-等雜質(zhì)元素,排除金屬膜表面雜質(zhì)污染導(dǎo)致電蝕的猜測。
      電阻保護(hù)層剖析
      保護(hù)層外觀形貌觀察
      用sem對a-原材、b-原材保護(hù)層形貌進(jìn)行觀察,如圖6a紅色箭頭所示,a-原材保護(hù)層表面有大量孔洞。如圖6b所示,b-原材保護(hù)層表面均勻致密。
      電阻保護(hù)層表面結(jié)構(gòu)觀察
      金屬膜缺失位于邊緣位置,對電阻去除正面端電極后觀察其邊緣結(jié)構(gòu)。如圖7a紅色框所示,a-原材邊緣陶瓷基材外露。比對可知:a-原材、b-原材保護(hù)層邊緣結(jié)構(gòu)設(shè)計不同,后者邊緣保護(hù)更充分。
      電阻保護(hù)層內(nèi)部結(jié)構(gòu)觀察
      對電阻進(jìn)行微切片制樣,用sem觀察保護(hù)層內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu),再進(jìn)行eds成分分析。如圖8a,a-原材保護(hù)層中間與兩端厚度差異明顯,中間局部可達(dá)62.64um,兩端厚度在10.58um~19.19um之間,內(nèi)部填充物顆粒粗大,其主要成份為c、o、mg、si。如圖8b,b-原材保護(hù)層相對較薄,中間與兩端無明顯差異,厚度約為32.75um,可見不同組分的兩層結(jié)構(gòu),填充物顆粒細(xì)小,其主要成份分別為c、o、al、si和c、o、mg、al、si、cr、mn、cu。比對可知:a-原材保護(hù)層邊緣薄,且填充顆粒粗大,水汽易侵入,與失效發(fā)生在邊緣位置的現(xiàn)象相符。b-原材保護(hù)層結(jié)構(gòu)致密,且兩層結(jié)構(gòu)可更好的保護(hù)金屬膜免遭濕氣的侵入。
      電阻hast能力比對
      選取a-原材、b-原材各10pcs進(jìn)行hast試驗,比對不同廠商電阻耐濕熱能力。把電阻焊接在測試板上,然后插入hast試驗箱,設(shè)置條件:130℃/85%rh/
      0.12mpa/10v/96h。規(guī)格要求試驗前后電阻的阻值變化率(δr/r)≤±(0.5%+0.05ω)。測試結(jié)果如圖9所示,a-原材δr/r皆超出規(guī)格,其中1pcs測試開路,b-原材δr/r皆滿足規(guī)格要求。測試結(jié)果表明,a-原材耐濕熱能力差,其結(jié)果與保護(hù)層比對結(jié)果相對應(yīng)。a-原材保護(hù)層存在孔洞及邊緣保護(hù)不到位等缺陷,在高溫、高濕的環(huán)境條件下,金屬膜容易被濕氣侵入,在電負(fù)荷作用下發(fā)生電蝕,從而導(dǎo)致阻值漂移或開路。
      本文從電阻失效分析著手,通過試驗?zāi)M探尋失效機(jī)理,并通過不同廠家電阻比對尋求改善方向,得出如下結(jié)論:
      結(jié)論
      1) 電阻失效的原因為金屬層缺失所致。
      2) eos、hast試驗結(jié)果顯示:a-ng失效現(xiàn)象與hast試驗失效樣品一致。失效機(jī)理為電阻在高溫、高濕、直流負(fù)荷的作用下發(fā)生電蝕。
      3) 對a-ng缺失膜與正常膜區(qū)域成份進(jìn)行檢測,未發(fā)現(xiàn)k+、na+、ca2+、cl-等雜質(zhì)元素,排除金屬膜表面雜質(zhì)污染導(dǎo)致電蝕的猜測。
      4) 對比a、b廠商電阻,a廠商電阻保護(hù)層存在空洞及邊緣保護(hù)不到位等缺陷,容易被濕氣侵入。通過hast比對電阻耐濕熱能力,進(jìn)一步印證以上結(jié)論。為有效的提高電阻的耐濕熱性能,建議從電阻保護(hù)層的工藝、厚度以及材質(zhì)方面加以改善:a.選擇填充顆粒細(xì)小的材料,減少濕氣進(jìn)入通道;b.調(diào)整保護(hù)層的厚度,使中間與邊緣厚度相對均勻;c.使用耐濕熱的保護(hù)材料。
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